16.2 HV擺動隔離閥兼具可靠的隔離性能與低顆粒計數及低顆?；罨匦?。其卓絕的顆粒性能得益于平滑的啟閉動作。

該閥門特別適用于蒸發(fā)器和濺射等惡劣工藝環(huán)境中的隔離需求。16.2閥提供三位置氣動單作用帶閉合彈簧或標準氣動單作用帶閉合彈簧兩種配置。

其特殊分體式閥體設計無需拆卸管道連接或工藝腔連接即可維護。纖薄結構可直接安裝于工藝腔體，省去傳統(tǒng)腔體-閥門-泵連接所需的額外容積。

憑借堅固設計與多樣化配置選項，16.2系列可輕松集成于各類真空工藝流程。

該系列已在全球數百套批量及在線生產系統(tǒng)中投入使用，經受各種工藝條件考驗，其卓絕性能在各方面均得到充分驗證。

16.2 HV擺動隔離閥提供鋁制版本，閥體經硬質陽極氧化或鍍鎳處理，配備符合ISO-F、ASA-LP和JIS標準的法蘭連接件?？杉煽蛻舳ㄖ品ㄌm。其他選項包括粗排（旁通）口、排氣口或儀表接口、加熱解決方案，以及帶硼硅酸鹽玻璃或藍寶石玻璃視窗的閥板。

在惡劣工藝環(huán)境中實現(xiàn)可靠隔離

低沖擊運行，低顆?；罨?/p>

工藝惰性——極低殘余脫氣量（RGA）

高運行時間

低運行成本

可根據工藝要求調整

半導體制造

蒸發(fā)與濺射設備：在真空鍍膜工藝中，16.2閥門隔離不同工藝腔體，防止材料交叉污染，同時低顆粒特性保障鍍膜質量。

晶圓傳輸系統(tǒng)：作為真空傳輸閥，其緊湊設計與高可靠性確保晶圓在真空環(huán)境中安全傳輸，減少生產中斷風險。

科研與高真空實驗

同步加速器與粒子加速器：閥門需在惡劣真空條件下長期穩(wěn)定運行，16.2系列的低放氣率與高密封性滿足實驗需求。

表面分析設備：在X射線光電子能譜（XPS）等分析中，閥門隔離真空系統(tǒng)與外界，避免樣品污染，確保數據準確性。

工業(yè)真空工藝

真空滅菌設備：閥門準確控制氣體流量，確保滅菌過程真空度穩(wěn)定，提升滅菌效率。